專利申請(qǐng)?zhí)?/span>:  

CN201410458372.9

專利類型:

發(fā)明

IPC 分類號(hào):   

G06F17/50 G06T7/10

應(yīng)用領(lǐng)域:  

用于無掩模光刻。

現(xiàn)有技術(shù)缺點(diǎn):  

傳統(tǒng)的光刻方法(即電子束光刻制作掩模，用投影光刻或接近接觸光刻進(jìn)行復(fù)制)不能同時(shí)滿足靈活、高效、低成本的要求。

技術(shù)優(yōu)勢:

1、提出了一種圖形轉(zhuǎn)換規(guī)則，建立從圖形數(shù)據(jù)到曝光數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)換接口。保證了在曝光精度的前提下，將矢量圖形模板轉(zhuǎn)換成相應(yīng)的灰度位圖模板，針對(duì)數(shù)字微透鏡掩模技術(shù)的特點(diǎn)，分割成指定的尺寸拼接曝光。

2、將大尺寸圖形中的精密部分分解成附加子文件，獨(dú)立生成位圖掩模，有效避免該部分因拼接曝光帶來的細(xì)節(jié)誤差影響，提高產(chǎn)品的性能質(zhì)量。

3、具有普適性，不局限于數(shù)字微透鏡掩模圖形的生成應(yīng)用，還可應(yīng)用于其他矢量圖到灰度位圖的高精度映射轉(zhuǎn)化。

摘要:   

本發(fā)明提出了一種將矢量圖形轉(zhuǎn)化成位圖并進(jìn)行自適應(yīng)分割的方法，該方法針對(duì)數(shù)字無掩模光刻技術(shù)中數(shù)字掩模只能是位圖的特點(diǎn)， 通過解析矢量圖的坐標(biāo)和屬性，逐層劃分，圖元合并和位圖補(bǔ)償?shù)姆绞接行?zhǔn)確的將一副矢量圖轉(zhuǎn)化位圖并分割成適用于數(shù)字無掩模光刻的多幅子位圖。該方法避免了矢量圖形直解映射到位圖造成精度的損失，解決了數(shù)字無掩模光刻技術(shù)中生成數(shù)字掩模的局限性。

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