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發(fā)表于:2019-10-17
作者:科翔信息
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專利申請?zhí)?/span>:
CN201310547214.6
專利類型:
發(fā)明
IPC 分類號:
G02F1/01
應(yīng)用領(lǐng)域:
太赫茲調(diào)制器
摘要:
本發(fā)明公開一種基于鐵電薄膜的太赫茲調(diào)制器及其制作方法。所述太赫茲調(diào)制器包括:介質(zhì)基板,其對太赫茲波具有較高的透過率; 多個鐵電薄膜單元,陣列排布在所述介質(zhì)基板上;太赫茲濾波結(jié)構(gòu), 設(shè)置在所述介質(zhì)基板和所述多個鐵電薄膜單元上,并且所述太赫茲濾波結(jié)構(gòu)對太赫茲波具有帶通濾波效應(yīng)。本發(fā)明充分結(jié)合了鐵電薄膜的介電常數(shù)可高速調(diào)制和高 Q 因子的太赫茲濾波結(jié)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn),在太赫茲濾波結(jié)構(gòu)工作頻率下對太赫茲波的幅值進(jìn)行高速電調(diào)制,具有調(diào)制速度高和調(diào)制深度大等特點(diǎn),可以彌補(bǔ)現(xiàn)有高速太赫茲調(diào)制器性能的不足,且該太赫茲調(diào)制器裝置操作簡單,成本較低,易于集成,在太赫茲通訊和成像等應(yīng)用方面具有較大的科學(xué)研究價值和市場前景。
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