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發(fā)表于:2019-12-20
作者:科翔信息
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專利申請?zhí)?/span>:
CN201510040898.X
專利類型:
發(fā)明
IPC 分類號(hào):
C01B21/064 B82Y30/00 B82Y40/00
應(yīng)用領(lǐng)域:
無機(jī)納米材料,應(yīng)用于超疏水、深紫外發(fā)光、熱界面材料等方面
摘要:
本發(fā)明公布了一種自支撐的氮化硼納米片柔性薄膜及其制備方法。該柔性薄膜主要由立體排列(亦可稱為“三維排列”)的氮化硼納米片組裝而成;其制備方法包括:以超順排碳納米管薄膜為模板, 取 B 源和N 源在設(shè)定條件下反應(yīng)生成氮化硼納米片并以三維排列的形態(tài)沉積于所述模板表面,形成 CNT/BN 納米片復(fù)合薄膜;將 CNT/BN 納米片復(fù)合薄膜置于含氧氣氛中煅燒除去所述模板,獲得所述柔性薄膜。本發(fā)明利用超順排碳納米管薄膜作為模板,以 CVD 等方式而形成了柔性薄膜,其具有三維組裝結(jié)構(gòu)、一定的機(jī)械強(qiáng)度和柔性, 可獨(dú)立支撐,便于宏觀加工操作,在超疏水、深紫外發(fā)光、熱界面材料等方面有著巨大的應(yīng)用前景,且制備工藝簡單,能實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。
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