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新材料項目推介——61、石墨托以及裝有石墨托的晶體生長爐

發(fā)表于:2020-01-09

作者:科翔信息

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文章導(dǎo)讀:為加快 G60 科創(chuàng)走廊高端創(chuàng)新要素整合集聚,促進 G60科創(chuàng)走廊九城市科技成果轉(zhuǎn)移轉(zhuǎn)化和知識產(chǎn)權(quán)運營交易,同時為籌備好“G60 科創(chuàng)走廊科技成果拍賣會”,G6...

專利申請?zhí)?/span>:  

CN201510418813.7

專利類型:

  發(fā)明

IPC 分類號:   

C30B29/36 C30B25/12 C30B23/02

應(yīng)用領(lǐng)域:  

半導(dǎo)體材料,應(yīng)用于電力轉(zhuǎn)換、太陽能光伏、電動汽車、高效馬達(dá)等領(lǐng)域

摘要:   

本發(fā)明涉及一種石墨托以及裝有石墨托的晶體生長爐,所述石墨托為中部截面直徑小于兩端截面直徑的回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu)。所述晶體生長爐, 包括:位于反應(yīng)室內(nèi)的石墨托,以及設(shè)置在所述反應(yīng)室周向的加熱裝置,其特征在于,所述石墨托為中部截面直徑小于兩端截面直徑的回轉(zhuǎn)體,所述石墨托上部設(shè)有臺面,所述加熱裝置的位置配合所述石墨托以對其進行加熱。本發(fā)明設(shè)置的石墨托中部設(shè)有徑向尺寸較小的中部,在石墨托外周設(shè)置的加熱裝置向石墨托進行振蕩加熱后,石墨托上部的臺面能夠獲得較為均勻的熱量,熱量在臺面上分布較為均勻,從而保證襯底上的溫度較為均勻,為晶體外延生長過程中提供了均勻的溫度環(huán)境,保證襯底上晶體外延生長均有較好的均勻性。

 

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