專利申請(qǐng)?zhí)?/span>:  

CN200910113203.0

專利類型:

  發(fā)明

IPC 分類號(hào):   

C30B29/10 C30B11/00 G02F1/355

應(yīng)用領(lǐng)域:  

非線性光學(xué)材料，用于獲得紫外、深紫外等相干光源

摘要:   

本發(fā)明涉及一種含溴的溴硼酸鉀非線性光學(xué)晶體及制備方法和用 途，該晶體分子式為：K3B6O10Br，屬于三方晶系，空間群為 R3m， 分子量為 422.07，具有鈣鈦礦結(jié)構(gòu)。該晶體采用高溫溶液法，將溴硼酸鉀化合物與助熔劑混勻，加熱，恒溫，在冷卻到飽和溫度得到混合溶液，將綁有 Pt 絲的剛玉桿放入混合溶液中，降溫至飽和溫度， 得到所需晶體，將晶體提離液面，降至室溫，即可得到溴硼酸鉀非線性光學(xué)晶體。該晶體非線性光學(xué)效應(yīng)為 KDP 晶體的 2 倍，透光波段 210nm 至 3000nm。在空氣中不潮解，生長(zhǎng)周期短，易于切割、拋光加工和保存，適合于制作非線性光學(xué)器件。本發(fā)明的非線性光學(xué)晶體在倍頻轉(zhuǎn)換、光參量振蕩器等非線性光學(xué)器件中可以得到廣泛應(yīng)用。

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